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先进装备

晶盛机电以创新引领产品、工艺、装备的迭代和突破,聚焦国际先进科技及卡脖子技术,推动国产半导体装备的产业化进程和产业链升级。以核心技术驱动公司稳健及可持续发展,以价值引领服务客户和投资者。

8英寸「单片式硅外延生长炉』

开元体育机电研发的8英寸单片式硅外延生长炉,可兼容6英寸、8英寸硅晶片生长,结构可靠稳定,有较好的膜厚和电阻均匀性

6英寸「碳化硅外延炉』

晶盛机电研发的6英寸碳化硅外延炉,可实现生长过程自动化控制,有较好的薄膜均匀性,兼容4英寸、6英寸外延片生长,结构简单,单片成本低

6英寸「立式碳化硅外延炉』

晶盛机电研发的6英寸立式碳化硅外延炉,可实现对4英寸、6英寸晶圆外延的生长,成膜质量优,工艺稳定性好,生产效率有效提升

6英寸「双片式碳化硅外延炉』

晶盛机电研发的6英寸双片式碳化硅外延炉,与单片设备相比,单台产能增加70%,单片运营成本降幅可达30%以上

8英寸「炉管』

晶盛机电研发的8英寸炉管,可同时对150片产品进行加工,满足多晶硅、退火等工艺需求,设备自动化程度高,可对接工厂MES系统

12英寸「炉管』

晶盛机电研发的12英寸炉管,可同时对125片产品进行加工,满足多晶硅、退火等工艺需求,设备自动化程度高,可对接工厂MES系统

先进制程及功率半导体装备(部分产品)

以CVD技术为核心,应用于先进制程、功率半导体的外延装备
8英寸「单片式硅外延生长炉』
6英寸「碳化硅外延炉』
6英寸「立式碳化硅外延炉』
6英寸「双片式碳化硅外延炉』
8英寸「炉管』
12英寸「炉管』
先进制程及功率半导体装备(部分产品)

8英寸「单片式硅外延生长炉』

晶盛机电研发的8英寸单片式硅外延生长炉,可兼容6英寸、8英寸硅晶片生长,结构可靠稳定,有较好的膜厚和电阻均匀性

6英寸「碳化硅外延炉』

晶盛机电研发的6英寸碳化硅外延炉,可实现生长过程自动化控制,有较好的薄膜均匀性,兼容4英寸、6英寸外延片生长,结构简单,单片成本低

6英寸「立式碳化硅外延炉』

晶盛机电研发的6英寸立式碳化硅外延炉,可实现对4英寸、6英寸晶圆外延的生长,成膜质量优,工艺稳定性好,生产效率有效提升

6英寸「双片式碳化硅外延炉』

晶盛机电研发的6英寸双片式碳化硅外延炉,与单片设备相比,单台产能增加70%,单片运营成本降幅可达30%以上

8英寸「炉管』

晶盛机电研发的8英寸炉管,可同时对150片产品进行加工,满足多晶硅、退火等工艺需求,设备自动化程度高,可对接工厂MES系统

12英寸「炉管』

晶盛机电研发的12英寸炉管,可同时对125片产品进行加工,满足多晶硅、退火等工艺需求,设备自动化程度高,可对接工厂MES系统

先进制程及功率半导体装备(部分产品)

以CVD技术为核心,应用于先进制程、功率半导体的外延装备
8英寸「单片式硅外延生长炉』
6英寸「碳化硅外延炉』
6英寸「立式碳化硅外延炉』
6英寸「双片式碳化硅外延炉』
8英寸「炉管』
12英寸「炉管』
先进制程及功率半导体装备(部分产品)

8英寸「单片式硅外延生长炉』

晶盛机电研发的8英寸单片式硅外延生长炉,可兼容6英寸、8英寸硅晶片生长,结构可靠稳定,有较好的膜厚和电阻均匀性

6英寸「碳化硅外延炉』

晶盛机电研发的6英寸碳化硅外延炉,可实现生长过程自动化控制,有较好的薄膜均匀性,兼容4英寸、6英寸外延片生长,结构简单,单片成本低

6英寸「立式碳化硅外延炉』

晶盛机电研发的6英寸立式碳化硅外延炉,可实现对4英寸、6英寸晶圆外延的生长,成膜质量优,工艺稳定性好,生产效率有效提升

6英寸「双片式碳化硅外延炉』

晶盛机电研发的6英寸双片式碳化硅外延炉,与单片设备相比,单台产能增加70%,单片运营成本降幅可达30%以上

8英寸「炉管』

晶盛机电研发的8英寸炉管,可同时对150片产品进行加工,满足多晶硅、退火等工艺需求,设备自动化程度高,可对接工厂MES系统

12英寸「炉管』

晶盛机电研发的12英寸炉管,可同时对125片产品进行加工,满足多晶硅、退火等工艺需求,设备自动化程度高,可对接工厂MES系统

先进制程及功率半导体装备(部分产品)

以CVD技术为核心,应用于先进制程、功率半导体的外延装备
8英寸「单片式硅外延生长炉』
6英寸「碳化硅外延炉』
6英寸「立式碳化硅外延炉』
6英寸「双片式碳化硅外延炉』
8英寸「炉管』
12英寸「炉管』
先进制程及功率半导体装备(部分产品)